|

Технология магнетронного нанесения высокобарьерного относительно кислорода наноразмерного покрытия из оксида алюминия на рулонную лавсановую пленку

Авторы: Панченко В.П., Дьячков А.Л., Королев С.П., Кравчук К.С., Садогурский  М.Н., Сейдман  Л.А. Опубликовано: 30.04.2020
Опубликовано в выпуске: #2(131)/2020  

DOI: 10.18698/0236-3941-2020-2-109-127

 
Раздел: Машиностроение и машиноведение | Рубрика: Технология и оборудование механической и физико-технической обработки  
Ключевые слова: магнетронное нанесение, оксид алюминия, наноразмерный слой, лавсановая пленка, установка, режим работы, технология, проницаемость, АСМ-изображение

Приведены результаты разработки технологии реактивного магнетронного нанесения наноразмерного слоя оксида алюминия на рулонную лавсановую пленку, обеспечивающую малую (до 1 см3/(м2· 24 ч · 0,1 МПа) удельную проницаемость относительно кислорода. Приведены описание крупногабаритной установки магнетронного нанесения и оптимальные режимы ее работы, а также последовательность совершаемых операций. Установлено влияние различных параметров магнетронного нанесения оксида алюминия на характеристики наноразмерного слоя. Измерены толщины оксидных слоев в интервале 20...80 нм, шероховатость их поверхностей и определены их структуры и рельефы. Установлена экспериментальная зависимость удельной проницаемости относительно кислорода оксидного слоя на лавсановой подложке от его толщины в интервале 20...80 нм, дано ее качественное объяснение и определены удельные затраты электроэнергии

Работа выполнена в АО "ИПК "Беседы" при частичной поддержке Фонда содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере (гос. контракт № 10474р/19532 от 04.06.2012 г.)

Литература

[1] Власова Г. Современный рынок полимерной упаковки. В: Актуальныя пытанні мытнай справы. Минск, 2010, с. 82--90.

[2] Hirvikorpi T., Laine R., Vaha-Nissiet V., et al. Barrier properties of plastic films coated with an Al2O3 layer by roll-to-toll atomic layer deposition. Thin Solid Films, 2014, vol. 220, pp. 164--169. DOI: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.10.148

[3] Chang R.C., Hou H.T., Tsai F.T., et al. Atomic layer deposited Al2O3 barrier layers on flexible PET substrates. AMM, 2014, vol. 479-480, pp. 80--85. DOI: https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMM.479-480.80

[4] Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. М., Техносфера, 2010.

[5] Zhang H., Sang L., Wang Z., et al. Recent progress on non-thermal plasma technology for high barrier layer fabrication. Plasma Sc. Technol., 2018, vol. 20, no. 6, pp. 1--16. DOI: https://doi.org/10.1088/2058-6272/aaacc8

[6] Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением. М., Техносфера, 2014.

[7] Королев С.П., Панченко В.П., Садогурский М.Н. и др. Способ реактивного магнетронного нанесения наноразмерного слоя оксида на подложку. Патент РФ 2556433. Заявл. 26.12.2013, опубл. 10.07.2015.

[8] Andritschky M. Origin of gas impurities in sputtering plasmas during thin film deposition. Vacuum, 1991, vol. 42, no. 12, pp. 753--756. DOI: https://doi.org/10.1016/0042-207X(91)90173-G

[9] Kagatsume A., Ueda S. Reduction of pumping time for a sputtering system by glow discharge cleaning. J. Vac. Sc. Technol. A, 1991, vol. 9, no. 4, pp. 2364--2368. DOI: https://doi.org/10.1116/1.577277

[10] Itoh A., Ishikawa Y., Kawabe T. Reduction of out gassing from stainless-steel surfaces by glow discharge. J. Vac. Sc. Technol. A, 1988, vol. 6, no. 4, pp. 2421--2425. DOI: https://doi.org/10.1116/1.575566

[11] Сейдман Л.А. О немонотонном изменении сопротивления реактивного разряда при изменении его режима. Тр. науч.-техн. сем. "Электровакуумная техника и технология". Т. 4. М., Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2012, с. 85--91.

[12] Кучин А.А., Обрадович К.А. Оптические приборы для измерения шероховатости поверхности. Л., Машиностроение, 1981.

[13] Прибор для определения газопроницаемости VAC-V1. ru.labthnk.com: веб-сайт. URL: http://ru.labthink.com/product/vac-v1-gas-permeability-tester.html (дата обращения: 15.12.2018).

[14] Ханлон Дж.Ф. Упаковка и тара: проектирование, технология, применение. СПб., Профессия, 2008.