| 
Моделирование ионно-имплантационной обработки материалов
| Авторы: Неволин В.Н., Гнедовец А.Г., Фоминский В.Ю., Кошманов В.Е., Шарфф B. | Опубликовано: 31.01.2014 |
| Опубликовано в выпуске: #3(56)/2004 | |
| Раздел: Моделирование процессов | |
| Ключевые слова: | |
Методом "частиц в ячейках" (PIC) проведено моделирование разлета импульсной лазерной плазмы в интенсивном внешнем электрическом поле, используемом для ускорения ионов при имплантационной обработке материалов. Исследованы динамика ионной и электронной компоненты, а также особенности распределения потенциала при подключении к обрабатываемой детали отрицательных высоковольтных импульсов различной формы. Проведено сравнение расчетных и экспериментально измеренных токовых и дозовых характеристик формируемого ионного пучка. Показана возможность применения разработанной модели для оптимизации требований к технологическим параметрам и оборудованию.
