6 / 9
Усовершенствование технологии нанесения теплозащитного покрытия…
ISSN 0236-3941. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Машиностроение. 2016. № 5
133
Рис. 7.
Схема распылителя ПАГ-1Н:
1
— корпус распылителя;
2
— сопло;
3
— стакан с суспензией;
4
,
5
— форсунки;
6
— трубки подачи суспензии;
7
— трубка подачи воздуха;
8
— рукоятка;
9
— игольчатый вентиль;
10
— манометр;
11
— штуцер для подачи сжатого воздуха
Получение наноразмерных порошков.
В первой половине ХХ в. талант-
ливым изобретателем Н.А. Чесноковым [7] был изготовлен реактор для получе-
ния наноразмерных порошков металлов в плазменной струе низкого давления.
Технологический плазмотрон с межэлектродными вставками работал при по-
ниженном давлении на аргоне при токах 400…600 А и мощности около 200 кВт.
Анод представлял собой объемный магнитогазодинамический разряд.
Химически активные порошки, полученные в объеме анода, размером
50…500 Ǻ (5…50 нм) закаливались на выходе струями аргона и собирались в
емкости в инертной среде для дальнейшей переработки.
Модификация реактора.
Реактор Н.А. Чеснокова служит прототипом но-
вой дуговой установки, на которой можно получать теплозащитные покрытия
со столбчатой структурой в объеме полости реактора. Во-первых, пониженное
давление в реакторе обеспечивает более широкий объем плазменной струи, в
котором может быть помещена лопатка целиком и где будет конденсироваться
испаряемый оксид циркония. Во-вторых, объем реактора позволяет установить
в нем вращатель и нагреватель для лопатки, на которой будет формироваться
теплозащита. В-третьих, ламинарный поток плазменной струи низкого давле-
ния более полно соответствует условиям кристаллизации в индукторе высоко-
частотной печи и электронно-лучевого осаждения ТЗП, чем течение высокогра-
диентного температурного потока плазменной струи в ASPS-процессе.